Retikullar və Qratiküllər
-
Tüfəng nişangahları üçün İşıqlandırılmış Retikul
Substrat:B270 / N-BK7/ H-K9L / H-K51
Ölçü Dözümlülük:-0,1 mm
Qalınlıq Tolerantlığı:±0,05 mm
Səthin hamarlığı:2(1)@632.8nm
Səth keyfiyyəti:20/10
Xəttin eni:minimum 0,003 mm
Kənarları:Torpaq, 0,3 mm maks.Tam eni əyilmə
Təmiz diyafram:90%
Paralellik:<5”
Kaplama:Yüksək optik sıxlıqlı qeyri-şəffaf xrom, Tablar<0.01%@Görünən Dalğa Boyu
Şəffaf Sahə, AR: R<0,35%@Görünən Dalğa Uzunluğu
Proses:Şüşə Oyma və Natrium Silikat və Titan Dioksid ilə Doldurun -
Dəqiq retiküllər – Şüşə üzərində Xrom
Substrat:B270 /N-BK7 / H-K9L
Ölçü Dözümlülük:-0,1 mm
Qalınlıq Tolerantlığı:±0,05 mm
Səthin hamarlığı:3(1)@632.8nm
Səth keyfiyyəti:20/10
Xəttin eni:Minimum 0,003 mm
Kənarları:Torpaq, 0,3 mm maks.Tam eni əyilmə
Təmiz diyafram:90%
Paralellik:<30”
Kaplama:Tək qatlı MgF2, Ravg<1.5%@Dizayn Dalğa UzunluğuXətt/Nöqtə/Şəkil: Cr və ya Cr2O3
-
Dəqiq optik yarıq – Şüşə üzərində Xrom
Substrat:B270
Ölçü Dözümlülük:-0,1 mm
Qalınlıq Tolerantlığı:±0,05 mm
Səthin hamarlığı:3(1)@632.8nm
Səth keyfiyyəti:40/20
Xəttin eni:0,1 mm və 0,05 mm
Kənarları:Torpaq, 0,3 mm maks.Tam eni əyilmə
Təmiz diyafram:90%
Paralellik:<5”
Kaplama:Yüksək optik sıxlıqlı qeyri-şəffaf xrom, Tablar<0.01%@Görünən Dalğa Boyu -
Mərhələ mikrometrləri kalibrləmə tərəzi torları
Substrat:B270
Ölçü Dözümlülük:-0,1 mm
Qalınlıq Tolerantlığı:±0,05 mm
Səthin hamarlığı:3(1)@632.8nm
Səth keyfiyyəti:40/20
Xəttin eni:0,1 mm və 0,05 mm
Kənarları:Torpaq, 0,3 mm maks.Tam eni əyilmə
Təmiz diyafram:90%
Paralellik:<5”
Kaplama:Yüksək optik sıxlıqlı qeyri-şəffaf xrom, Tablar<0.01%@Görünən Dalğa Boyu
Şəffaf Sahə, AR: R<0,35%@Görünən Dalğa Uzunluğu
